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Forschungsstelle
INNOSUISSE
Projektnummer
17613.2 PFNM-NM
Projekttitel
Multilayer ALD films for capacitance diaphragm gauge sealing against halogen and oxygen industrial plasmas
Projekttitel Englisch
Multilayer ALD films for capacitance diaphragm gauge sealing against halogen and oxygen industrial plasmas

Texte zu diesem Projekt
 DeutschFranzösischItalienischEnglisch
Kurzbeschreibung
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Erfasste Texte


KategorieText
Kurzbeschreibung
(Deutsch)
Multilayer ALD films for capacitance diaphragm gauge sealing against halogen and oxygen industrial plasmas
Kurzbeschreibung
(Englisch)
Multilayer ALD films for capacitance diaphragm gauge sealing against halogen and oxygen industrial plasmas
Abstract
(Deutsch)
An innovative multilayer thin film material will be developed for pressure sensor heads of plasma etch tools used in semiconductor industry. Atomic layer deposition will be employed as an enabling method for conformal coating and sealing the interior sensor head against the harsh industrial plasma environments. Systematic plasma etch studies & characterization together with simulations of plasma flow and mechanical constraints will be used to design the multilayer material.
Abstract
(Englisch)