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Forschungsstelle
INNOSUISSE
Projektnummer
17613.2 PFNM-NM
Projekttitel
Multilayer ALD films for capacitance diaphragm gauge sealing against halogen and oxygen industrial plasmas
Projekttitel Englisch
Multilayer ALD films for capacitance diaphragm gauge sealing against halogen and oxygen industrial plasmas
Projektstatus Abgeschlossen
 
Startdatum 01.11.2015
Endedatum 01.02.2018
 
Gesamtkosten bewilligt 521'512.00  CHF
Bereich 22 Förderbereich Nano / Micro
Proj. Kategorie Projekt
Forschungsart Angewandte Forschung und Entwicklung
NABS-Klassifikation Industrielle Produktivität und Technologie
 
Fachbereiche
100 % T171 Mikroelektronik
Letzte Änderung Projekt