NANOscan: Linear technology for future semiconductor inspection systems - Texts

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Research unit

INNOSUISSE

Project number

7129.3;2 NMPP-NM

Project title

NANOscan: Linear technology for future semiconductor inspection systems

Texts for this project

	German	French	Italian	English
Short description		-	-
Abstract		-	-	-

Inserted texts

Category	Text
Short description (German)	NANOscan: Lineartechnologie für zukünftige Halbleiter-Inspektionssysteme
Short description (English)	NANOscan: Linear technology for future semiconductor inspection systems
Abstract (German)	Zukünftige Linearsysteme für Waferbelichtung und ¿inspektion müssen extrem hohe Anforderungen bezüglich Ablauf- und Positioniergenauigkeit erfüllen und zugleich ist die Auswahl der verwendbaren Werkstoffe sehr stark eingeschränkt. Im Projekt sollen die Messtechnik, die Grundlagen der elektronischen Steuerung sowie mechanische und werkstofftechnische Designrichtlinien für solche Linearsysteme erarbeitet werden.