NANOscan: Linear technology for future semiconductor inspection systems

• Unité de recherche: INNOSUISSE
• Numéro de projet: 7129.3;2 NMPP-NM
• Titre du projet anglais: NANOscan: Linear technology for future semiconductor inspection systems

Description succincte (Allemand)

NANOscan: Lineartechnologie für zukünftige Halbleiter-Inspektionssysteme

Description succincte (Anglais)

NANOscan: Linear technology for future semiconductor inspection systems

Résumé des résultats (Abstract) (Allemand)

Zukünftige Linearsysteme für Waferbelichtung und ¿inspektion müssen extrem hohe Anforderungen bezüglich Ablauf- und Positioniergenauigkeit erfüllen und zugleich ist die Auswahl der verwendbaren Werkstoffe sehr stark eingeschränkt. Im Projekt sollen die Messtechnik, die Grundlagen der elektronischen Steuerung sowie mechanische und werkstofftechnische Designrichtlinien für solche Linearsysteme erarbeitet werden.