Development of maskless Ion Beam LIGA technology for 3D, deep and high aspect ratio micro(nano) structuring of photoresist materials

Unité de recherche

INNOSUISSE

Numéro de projet

6617.1;5 FHS-IW

Titre du projet

Development of maskless Ion Beam LIGA technology for 3D, deep and high aspect ratio micro(nano) structuring of photoresist materials

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