Development of maskless Ion Beam LIGA technology for 3D, deep and high aspect ratio micro(nano) structuring of photoresist materials

Forschungsstelle

INNOSUISSE

Projektnummer

6617.1;5 FHS-IW

Projekttitel

Development of maskless Ion Beam LIGA technology for 3D, deep and high aspect ratio micro(nano) structuring of photoresist materials

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Kurzbeschreibung (Französisch)	Development of maskless Ion Beam LIGA technology for 3D, deep and high aspect ratio micro(nano) structuring of photoresist materials