Multilayer ALD films for capacitance diaphragm gauge sealing against halogen and oxygen industrial plasmas

Unité de recherche

INNOSUISSE

Numéro de projet

17613.2 PFNM-NM

Titre du projet

Multilayer ALD films for capacitance diaphragm gauge sealing against halogen and oxygen industrial plasmas

Titre du projet anglais

Multilayer ALD films for capacitance diaphragm gauge sealing against halogen and oxygen industrial plasmas

Etat du projet	Terminé

Date de début	01.11.2015
Date de fin	01.02.2018

Coûts totaux approuvés	521'512.00 CHF
Domaine	22 Förderbereich Nano / Micro
Catégorie de projet	Projet
Type de recherche	Recherche appliquée et développement
Code NABS	Production et technologie industrielles

Disciplines/domaines	100 % T171 Microélectronique

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