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Forschungsstelle
INNOSUISSE
Projektnummer
9675.2;5 PFIW-IW
Projekttitel
A new low ion energy bombardment PECVD reactor for the deposition of thin film silicon for solar cell applications.
Projekttitel Englisch
A new low ion energy bombardment PECVD reactor for the deposition of thin film silicon for solar cell applications
Projektstatus Abgeschlossen
 
Startdatum 01.01.2009
Endedatum 14.08.2012
 
Gesamtkosten bewilligt 412'672.00  CHF
Bereich 23 Förderbereich Engineering
Proj. Kategorie Projekt
Forschungsart Angewandte Forschung und Entwicklung
NABS-Klassifikation Nicht aufteilbare / nicht zuteilbare Forschung
 
Fachbereiche
100 % T210 Masch.bau, Hydraulik, Vakuumtechnik, mech. Schwingungen, tech. Akustik
Letzte Änderung Projekt
27.11.2014