Development of maskless Ion Beam LIGA technology for 3D, deep and high aspect ratio micro(nano) structuring of photoresist materials

Unité de recherche

INNOSUISSE

Numéro de projet

6617.1;5 FHS-IW

Titre du projet

Development of maskless Ion Beam LIGA technology for 3D, deep and high aspect ratio micro(nano) structuring of photoresist materials

Etat du projet	Terminé

Date de début	15.06.2003
Date de fin	06.07.2006

Coûts totaux approuvés	270'000.00 CHF
Domaine	14 HES
Catégorie de projet	Projet
Type de recherche	Recherche appliquée et développement
Code NABS	Production et technologie industrielles

Disciplines/domaines	100 % T150 Technologie de matériaux

Dernière modification du projet 27.11.2014