Kompakte Magnetron-Sputteranlage und Prozess zur flexiblen und kostengünstigen Herstellung hochwertiger Laserspiegelschichten

• Unité de recherche: INNOSUISSE
• Numéro de projet: 18893.1 PFNM-NM
• Titre du projet anglais: Kompakte Magnetron-Sputteranlage und Prozess zur flexiblen und kostengünstigen Herstellung hochwertiger Laserspiegelschichten

Description succincte (Allemand)

Kompakte Magnetron-Sputteranlage und Prozess zur flexiblen und kostengünstigen Herstellung hochwertiger Laserspiegelschichten

Description succincte (Anglais)

Kompakte Magnetron-Sputteranlage und Prozess zur flexiblen und kostengünstigen Herstellung hochwertiger Laserspiegelschichten

Résumé des résultats (Abstract) (Allemand)

Zur flexiblen kostengünstigen Herstellung hochwertiger optischer Schichten mit hoher Laserzerstörschwelle wird ein äusserst kompaktes reakt. Magnetron-Sputtersystem mit integriertem Plasmaemissions- und opt. Monitoring inkl. Beschichtungsprozess realisiert. Projektinhalt sind Konzeption und Aufbau der Anlage, opt. Design, Entwicklung der Beschichtungsprozesse und Charakterisierung der opt. Schichtsysteme. Ziel ist die Kommerzialisierung der Magnetron-Sputteranlage inkl. Prozess für hochwertige optische Beschichtungen.

Résumé des résultats (Abstract) (Anglais)

Zur flexiblen kostengünstigen Herstellung hochwertiger optischer Schichten mit hoher Laserzerstörschwelle wird ein äusserst kompaktes reakt. Magnetron-Sputtersystem mit integriertem Plasmaemissions- und opt. Monitoring inkl. Beschichtungsprozess realisiert. Projektinhalt sind Konzeption und Aufbau der Anlage, opt. Design, Entwicklung der Beschichtungsprozesse und Charakterisierung der opt. Schichtsysteme. Ziel ist die Kommerzialisierung der Magnetron-Sputteranlage inkl. Prozess für hochwertige optische Beschichtungen.