Kompakte Magnetron-Sputteranlage und Prozess zur flexiblen und kostengünstigen Herstellung hochwertiger Laserspiegelschichten

• Research unit: INNOSUISSE
• Project number: 18893.1 PFNM-NM

Short description (German)

Kompakte Magnetron-Sputteranlage und Prozess zur flexiblen und kostengünstigen Herstellung hochwertiger Laserspiegelschichten

Short description (English)

Kompakte Magnetron-Sputteranlage und Prozess zur flexiblen und kostengünstigen Herstellung hochwertiger Laserspiegelschichten

Abstract (German)

Zur flexiblen kostengünstigen Herstellung hochwertiger optischer Schichten mit hoher Laserzerstörschwelle wird ein äusserst kompaktes reakt. Magnetron-Sputtersystem mit integriertem Plasmaemissions- und opt. Monitoring inkl. Beschichtungsprozess realisiert. Projektinhalt sind Konzeption und Aufbau der Anlage, opt. Design, Entwicklung der Beschichtungsprozesse und Charakterisierung der opt. Schichtsysteme. Ziel ist die Kommerzialisierung der Magnetron-Sputteranlage inkl. Prozess für hochwertige optische Beschichtungen.

Abstract (English)

Zur flexiblen kostengünstigen Herstellung hochwertiger optischer Schichten mit hoher Laserzerstörschwelle wird ein äusserst kompaktes reakt. Magnetron-Sputtersystem mit integriertem Plasmaemissions- und opt. Monitoring inkl. Beschichtungsprozess realisiert. Projektinhalt sind Konzeption und Aufbau der Anlage, opt. Design, Entwicklung der Beschichtungsprozesse und Charakterisierung der opt. Schichtsysteme. Ziel ist die Kommerzialisierung der Magnetron-Sputteranlage inkl. Prozess für hochwertige optische Beschichtungen.