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Forschungsstelle
INNOSUISSE
Projektnummer
18893.1 PFNM-NM
Projekttitel
Kompakte Magnetron-Sputteranlage und Prozess zur flexiblen und kostengünstigen Herstellung hochwertiger Laserspiegelschichten
Projekttitel Englisch
Kompakte Magnetron-Sputteranlage und Prozess zur flexiblen und kostengünstigen Herstellung hochwertiger Laserspiegelschichten

Texte zu diesem Projekt
 DeutschFranzösischItalienischEnglisch
Kurzbeschreibung
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Erfasste Texte


KategorieText
Kurzbeschreibung
(Deutsch)
Kompakte Magnetron-Sputteranlage und Prozess zur flexiblen und kostengünstigen Herstellung hochwertiger Laserspiegelschichten
Kurzbeschreibung
(Englisch)
Kompakte Magnetron-Sputteranlage und Prozess zur flexiblen und kostengünstigen Herstellung hochwertiger Laserspiegelschichten
Abstract
(Deutsch)
Zur flexiblen kostengünstigen Herstellung hochwertiger optischer Schichten mit hoher Laserzerstörschwelle wird ein äusserst kompaktes reakt. Magnetron-Sputtersystem mit integriertem Plasmaemissions- und opt. Monitoring inkl. Beschichtungsprozess realisiert. Projektinhalt sind Konzeption und Aufbau der Anlage, opt. Design, Entwicklung der Beschichtungsprozesse und Charakterisierung der opt. Schichtsysteme. Ziel ist die Kommerzialisierung der Magnetron-Sputteranlage inkl. Prozess für hochwertige optische Beschichtungen.
Abstract
(Englisch)
Zur flexiblen kostengünstigen Herstellung hochwertiger optischer Schichten mit hoher Laserzerstörschwelle wird ein äusserst kompaktes reakt. Magnetron-Sputtersystem mit integriertem Plasmaemissions- und opt. Monitoring inkl. Beschichtungsprozess realisiert. Projektinhalt sind Konzeption und Aufbau der Anlage, opt. Design, Entwicklung der Beschichtungsprozesse und Charakterisierung der opt. Schichtsysteme. Ziel ist die Kommerzialisierung der Magnetron-Sputteranlage inkl. Prozess für hochwertige optische Beschichtungen.