High aspect ratio, deep sub-micrometer patterning of polymers with high energy ion beams

Forschungsstelle

INNOSUISSE

Projektnummer

4785.2;3 TNS-NM

Projekttitel

High aspect ratio, deep sub-micrometer patterning of polymers with high energy ion beams

Texte zu diesem Projekt

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Kurzbeschreibung (Französisch)	High aspect ratio, deep sub-micrometer patterning of polymers with high energy ion beams