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Forschungsstelle
INNOSUISSE
Projektnummer
47744.1 IP-ENG
Projekttitel
Ion Beam Sputtering of 2D materials # A new approach
Projekttitel Englisch
Ion Beam Sputtering of 2D materials # A new approach
Projektstatus Abgeschlossen
 
Startdatum 01.10.2020
Endedatum 01.09.2023
 
Gesamtkosten bewilligt 281'878.34  CHF
Bereich 70 Engineering
Proj. Kategorie Projekt
Forschungsart Angewandte Forschung und Entwicklung
NABS-Klassifikation Industrielle Produktivität und Technologie
 
Fachbereiche
100 % T120 Systemtechnik, Rechnertechnologie, Steuerungstechnik
Letzte Änderung Projekt