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Unité de recherche
INNOSUISSE
Numéro de projet
18616.1 PFNM-NM
Titre du projet
High Volume Process for AlScN Thin Film deposition
Titre du projet anglais
High Volume Process for AlScN Thin Film deposition
Etat du projet Terminé
 
Date de début 01.04.2016
Date de fin 01.10.2017
 
Coûts totaux approuvés 287'337.00  CHF
Domaine 22 Förderbereich Nano / Micro
Catégorie de projet Projet
Type de recherche Recherche appliquée et développement
Code NABS Production et technologie industrielles
 
Disciplines/domaines
100 % T171 Microélectronique
Dernière modification du projet