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Forschungsstelle
INNOSUISSE
Projektnummer
9896.2;4 PFIW-IW
Projekttitel
Very fast SiOx barrier deposition on polymers by plasma enhanced chemical vapor (PECVD) process with a helicon plasma source
Projekttitel Englisch
Very fast SiOx barrier deposition on polymers by plasma enhanced chemical vapor (PECVD) process with a helicon plasma source
Projektstatus Abgeschlossen
 
Startdatum 01.07.2009
Endedatum 13.11.2012
 
Gesamtkosten bewilligt 328'320.00  CHF
Bereich 23 Förderbereich Engineering
Proj. Kategorie Projekt
Forschungsart Angewandte Forschung und Entwicklung
NABS-Klassifikation Nicht aufteilbare / nicht zuteilbare Forschung
 
Fachbereiche
100 % T130 Produktionstechnik

Letzte Änderung Projekt
27.11.2014