ServicenavigationHauptnavigationTrailKarteikarten


Forschungsstelle
INNOSUISSE
Projektnummer
9896.2;4 PFIW-IW
Projekttitel
Very fast SiOx barrier deposition on polymers by plasma enhanced chemical vapor (PECVD) process with a helicon plasma source
Projekttitel Englisch
Very fast SiOx barrier deposition on polymers by plasma enhanced chemical vapor (PECVD) process with a helicon plasma source

Beteiligte

Bundesstelle/ Verwaltungseinheit Innosuisse
Schweizerische Agentur
für Innovationsförderung
Einsteinstrasse 2
CH-3003 Bern
+41 58 461 61 61 (Zentrale)
info@innosuisse.ch
www.innosuisse.ch/
Kontaktperson

Dr.
Christoph Hollenstein
EPFL
Station 13
CH-1015 Lausanne
021 693 34 71
christophe.hollenstein@epfl.ch