Thin film deposition in the new multilayer plasma process by means of a Triplex plasma torch

Unité de recherche

INNOSUISSE

Numéro de projet

9397.2;4 PFIW-IW

Titre du projet

Thin film deposition in the new multilayer plasma process by means of a Triplex plasma torch

Titre du projet anglais

Thin film deposition in the new multilayer plasma process by means of a Triplex plasma torch

Etat du projet	Terminé

Date de début	01.04.2008
Date de fin	17.04.2012

Coûts totaux approuvés	566'997.00 CHF
Domaine	23 Förderbereich Engineering
Catégorie de projet	Projet
Type de recherche	Recherche appliquée et développement
Code NABS	Recherches non ventilées / non attribuables

Disciplines/domaines	100 % T210 Mécanique/acoustique appliquée,hydraulique,technologie du vide,vibrations

Dernière modification du projet 27.11.2014