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Forschungsstelle
INNOSUISSE
Projektnummer
5602.1;7 KTS-IW
Projekttitel
New high density plasma source for etching and plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD)
Projektstatus Abgeschlossen
 
Startdatum 01.11.2001
Endedatum 18.04.2005
 
Gesamtkosten bewilligt 405'000.00  CHF
Bereich 5 KTI
Proj. Kategorie Projekt
Forschungsart Angewandte Forschung und Entwicklung
NABS-Klassifikation Industrielle Produktivität und Technologie
 
Fachbereiche
100 % T150 Werkstofftechnologie
Letzte Änderung Projekt
27.11.2014