High aspect ratio, deep sub-micrometer patterning of polymers with high energy ion beams

Unité de recherche

INNOSUISSE

Numéro de projet

4785.2;3 TNS-NM

Titre du projet

High aspect ratio, deep sub-micrometer patterning of polymers with high energy ion beams

Etat du projet	Terminé

Date de début	01.01.2001
Date de fin	28.01.2005

Coûts totaux approuvés	75'000.00 CHF
Domaine	17 TOP NANO
Catégorie de projet	Projet
Type de recherche	Recherche appliquée et développement
Code NABS	Production et technologie industrielles

Disciplines/domaines	100 % Pas encore déterminé

Dernière modification du projet 27.11.2014