En-tête de navigationNavigation principaleSuiviFiche

Unité de recherche
INNOSUISSE
Numéro de projet
8587.1;6 EPRP-IW
Titre du projet
Optimization of the plasma enhanced chemical vapor (PECVD) process for the deposition of SiOx barrier coatings on polymers
Titre du projet anglais
Optimization of the plasma enhanced chemical vapor (PECVD) process for the deposition of SiOx barrier coatings on polymers

Participants
Office fédéral/ Unité administrative Innosuisse
Agence suisse pour l'encouragement
de l'innovation
Einsteinstrasse 2
CH-3003 Bern
+41 58 461 61 61 (Central)
info@innosuisse.ch
www.innosuisse.ch/
Personne à contacter

 Dr.
Christoph Hollenstein
EPFL
Station 13
CH-1015 Lausanne
021 693 34 71
christophe.hollenstein@epfl.ch