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Forschungsstelle
INNOSUISSE
Projektnummer
8587.1;6 EPRP-IW
Projekttitel
Optimization of the plasma enhanced chemical vapor (PECVD) process for the deposition of SiOx barrier coatings on polymers
Projekttitel Englisch
Optimization of the plasma enhanced chemical vapor (PECVD) process for the deposition of SiOx barrier coatings on polymers
Projektstatus Abgeschlossen
 
Startdatum 01.02.2007
Endedatum 18.10.2010
 
Gesamtkosten bewilligt 240'000.00  CHF
Bereich 23 Förderbereich Engineering
Proj. Kategorie Projekt
Forschungsart Angewandte Forschung und Entwicklung
NABS-Klassifikation Nicht aufteilbare / nicht zuteilbare Forschung
 
Fachbereiche
100 % T130 Produktionstechnik
Letzte Änderung Projekt
27.11.2014