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Forschungsstelle
INNOSUISSE
Projektnummer
8587.1;6 EPRP-IW
Projekttitel
Optimization of the plasma enhanced chemical vapor (PECVD) process for the deposition of SiOx barrier coatings on polymers
Projekttitel Englisch
Optimization of the plasma enhanced chemical vapor (PECVD) process for the deposition of SiOx barrier coatings on polymers

Beteiligte
Bundesstelle/ Verwaltungseinheit Innosuisse
Schweizerische Agentur
für Innovationsförderung
Einsteinstrasse 2
CH-3003 Bern
+41 58 461 61 61 (Zentrale)
info@innosuisse.ch
www.innosuisse.ch/
Kontaktperson

 Dr.
Christoph Hollenstein
EPFL
Station 13
CH-1015 Lausanne
021 693 34 71
christophe.hollenstein@epfl.ch