INVEST: Integration of very high-k dielectrics with silicon CMOS technology

Unité de recherche

PCRD EU

Numéro de projet

00.0623

Titre du projet

INVEST: Integration of very high-k dielectrics with silicon CMOS technology

Titre du projet anglais

INVEST: Integration of very high-k dielectrics with silicon CMOS technology

Participants
Office fédéral/ Unité administrative

Personne à contacter

Dr.
Matthias Kaiserswerth
IBM Research GmbH
Säumerstrasse 4
CH-8803 Rüschlikon
044 724 81 11

Participants