DUNE: Design of an ultra-stiff actively controlled nano-positioning system for HSC and ELID grinding applications

• Unité de recherche: PCRD EU
• Numéro de projet: 97.0438
• Titre du projet anglais: DUNE: Design of an ultra-stiff actively controlled nano-positioning system for HSC and ELID grinding applications

Mots-clé (Allemand)

Polieren; ELID-Schleifen; HSCh; Nano-Positionier-System; Piezo-Antrieb

Autre Numéro de projet (Anglais)

EU project number: BRPR-CT97-0526

Programme de recherche (Anglais)

EU-programme: 4. Frame Research Programme - 2.1 Industrial and materials technologies

Description succincte (Allemand)

Siehe Abstract

Partenaires et organisations internationales (Allemand)

KU Leuven (B), FhG-IPT (D), Pöting (D), Philips (NL), Euro Precision Technology (NL)

Résumé des résultats (Abstract) (Allemand)

Verschiedene industrielle Produkte mit sehr geringer Oberflächenrauhigkeit erfordern neben der üb-lichen Feinbearbeitung ein zusätzliches, zeitaufwendiges Polieren. Neue Fertigungsverfahren wie 'Electrolytic In-process Dressing' (ELID) oder 'High Speed Chipping' (HSCh) könnten hohe Abtragsraten und hohe Oberflächengüten ohne Beschädigung der oberflächennahen Randschichten vereinen und so die Möglichkeiten eröffnen, den Polierprozess zu substituieren. Duktiles Schleifen kann für verschiedenste Werkstoffe eingesetzt werden: Metall, Glas und Keramik.
Duktiles Schleifen erfordert eine genauste Bewegung im Submikron-Bereich. Herkömmliche Schleif-maschinen erfüllen die extremen Anforderungen an Genauigkeit und Starrheit nicht.
Das Ziel von DUNE ist die Entwicklung eines neuen, ultra-steifen Nano-Positionier-Systems, das den oben genannten Anforderungen genügt.

Im ersten Teil des Projekts wurde ein Funktionsmuster des Nano-Positionier-Systems entwickelt. Parallel dazu wurde eine HSCh-Bearbeitungseinheit (Spindel und Werkzeug) entwickelt. Mit beiden Systemen konnte in ersten Versuchen die Funktionsfähigkeit gezeigt und Messungen durchgeführt werden.

SCHNEEBERGER war an der Entwicklung des 'Nano-Positionier-Systems beteiligt:
Für das Funktionsmuster des Nano-Positionier-Systems wurden die (mechanischen) Schrittelemente hergestellt. Da jedes dieser sechs Mikroschritt-Elemente Bewegungen auch im Submikronbereich ausführt, war eine besonders hohe Fertigungsgenauigkeit erforderlich.
Aufgrund der ersten Versuchsergebnisse des Funktionsmuster vom Nano-Positionier-Systems wurde der weitere Entwicklungsaufwand ermittelt und die Möglichkeiten der kommerziellen Nutzung beurteilt.

Références bases de données (Anglais)

Swiss Database: Euro-DB of the
State Secretariat for Education and Research
Hallwylstrasse 4
CH-3003 Berne, Switzerland
Tel. [phone]
Swiss Project-Number: 97.0438