Development of Resonant ICP Plasma source for Diamond Nucleation

Forschungsstelle

INNOSUISSE

Projektnummer

126.066 IP-ENG

Projekttitel

Development of Resonant ICP Plasma source for Diamond Nucleation

Projekttitel Englisch

Development of Resonant ICP Plasma source for Diamond Nucleation

Texte zu diesem Projekt

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Kategorie	Text
Schlüsselwörter (Englisch)	Engineering, Material sciences
Abstract (Englisch)	This project develops a scalable plasma source using RF resonant networks for diamond nucleation & growth on 200mm wafers. The goal of this EPFL&EVATEC collaboration is to achieve high plasma density and uniformity, advancing industrial applications in semiconductors and quantum technologies.