Hycompact: A compact vertically stacked chamber for hybrid thin film processing

Forschungsstelle

INNOSUISSE

Projektnummer

47997.1 IP-ENG

Projekttitel

Hycompact: A compact vertically stacked chamber for hybrid thin film processing

Projekttitel Englisch

Hycompact: A compact vertically stacked chamber for hybrid thin film processing

Texte zu diesem Projekt

	Deutsch	Französisch	Italienisch	Englisch
Kurzbeschreibung		-	-
Abstract		-	-	-

Kategorie	Text
Kurzbeschreibung (Deutsch)	Hycompact: A compact vertically stacked chamber for hybrid thin film processing
Kurzbeschreibung (Englisch)	Hycompact: A compact vertically stacked chamber for hybrid thin film processing
Abstract (Deutsch)	We develop a new technology for combining ALD and PVD deposition processes in an innovative, standalone and compact cluster equipment. This will enable the deposition of hybrid thin film systems demonstrated on nano-multilayers with superior mechanical and thermal properties.