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Forschungsstelle
INNOSUISSE
Projektnummer
18188.1 PFNM-NM
Projekttitel
MURMELi: Multi-channel Ultra-Resolution Mask Exposure Lithography
Projekttitel Englisch
MURMELi: Multi-channel Ultra-Resolution Mask Exposure Lithography

Texte zu diesem Projekt
 DeutschFranzösischItalienischEnglisch
Kurzbeschreibung
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Abstract
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Erfasste Texte


KategorieText
Kurzbeschreibung
(Deutsch)
MURMELi: Multi-channel Ultra-Resolution Mask Exposure Lithography
Kurzbeschreibung
(Englisch)
MURMELi: Multi-channel Ultra-Resolution Mask Exposure Lithography
Abstract
(Deutsch)
Build and optimize 1X Microlens Projection Lithography (MPL) with more than 500um free working distance and 2um (half-pitch) minimum feature size. The development of next-generation Mask Aligners comprises illumination engineering for different sources (i-line, high power diode laser, Excimer), source-mask optimization (SMO) and high-resolution wafer positioning and combines the simplicity of Mask Aligners with the advantages of Steppers.
Abstract
(Englisch)