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Unité de recherche
SECO
Numéro de projet
2012-DA-ABCH-01
Titre du projet
Abschätzung der Exposition gegenüber Nanomaterialien am Arbeitsplatz auf der Grundlage von bestehenden Messdaten in der Schweiz

Textes relatifs à ce projet

 AllemandFrançaisItalienAnglais
Mots-clé
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Description succincte
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Objectifs du projet
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Textes saisis


CatégorieTexte
Mots-clé
(Allemand)
Nanomaterialien, Arbeitsplatz-Exposition
Mots-clé
(Anglais)
Nano-materials, workplace-exposition
Description succincte
(Allemand)

Die Schweiz startete 2008 einen Aktionsplan, der zum Ziel hat, eine wissenschaftlich fundierte Grundlage für eine Risikobeurteilung von Nanomaterialien im Gesundheits- und Umweltbereich zu erarbeiten. Im Grundlagenbericht zum Aktionsplan wurde insbesondere auf die grossen Wissens- und Methodiklücken bezüglich Verwendung und Exposition von Nanopartikeln am Arbeitsplatz hingewiesen. Beispielsweise gibt es noch keine Übersicht zu den Arten von Materialien, Quantitäten oder Anwendungsarten und -formen und zu den resultierenden Endprodukten, welche Nanomaterialien enthalten. Zudem wurden die Arbeitsplatzkonzentrationen bisher erst spärlich bestimmt und es ist unklar, ob die gängigen arbeitshygienischen Modelle (z.B. Advanced REACH tool) für lokale und temporale Konzentrationsprofile auch für synthetische Nanomaterialien zutreffen. Ferner stellt sich in der Toxikologie der Nanopartikel die Frage, welche Expositionsrouten (inhalativ, dermal, oral) für Nanomaterialien relevant sind.

Objectifs du projet
(Allemand)

Ziel des Fortsetzungsprojektes ist es, die Möglichkeiten zur Modellierung von nanospezifischer Arbeitsplatz-Exposition zu testen und weiterzuentwickeln. Auf der Grundlage von Expositionsdaten am Arbeitsplatz in der Schweiz und von wissenschaftlichen Studien ist festzustellen,

-       ob nanospezifische Arbeitsplatz-Expositionsmodelle entwickelt werden können
-       welche bereits existierenden (Arbeitsplatz-)Modelle geeignet wären, um nano-spezifische Anpassungen durchzuführen
-       welche Modell-Parameter geändert werden oder neu hinzukommen müssten, um die Exposition gegenüber Nanopartikeln zu modellieren.