Development of a cantilever based instrument for the highly precise measurement of surface stress in semiconductor production and thin film technology

• Unité de recherche: INNOSUISSE
• Numéro de projet: 10051.1;6 PFNM-NM
• Titre du projet anglais: Development of a cantilever based instrument for the highly precise measurement of surface stress in semiconductor production and thin film technology

Description succincte (Allemand)

Entwicklung eines Cantilever-basierten Messinstruments zur hochpräzisen Bestimmung von Oberflächenspannungen in der Halbleiterproduktion und Dünnschichttechnologie

Description succincte (Anglais)

Development of a cantilever based instrument for the highly precise measurement of surface stress in semiconductor production and thin film technology

Résumé des résultats (Abstract) (Allemand)

Bei Aufdampfprozessen entstehende Oberflächenspannungen in dünnen Schichten sind vor allem in derHalbleiterindustrie mit ihren immer kleiner werdenden Strukturen von zentraler Bedeutung: sie können dieFunktionstüchtigkeit und Leistungsfähigkeit elektronischer Bauteile beeinträchtigen. Bisher fehlenMethoden, um die auftretenden Spannungen präzise zu messen. Mit einem neuartigen, auf Cantilever-Sensoren basierenden System sollen Spannungen gegenüber herkömmlichen Systemen um einen Faktor1000 genauer bestimmt werden.