Development of a cantilever based instrument for the highly precise measurement of surface stress in semiconductor production and thin film technology - Texts

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Research unit

INNOSUISSE

Project number

10051.1;6 PFNM-NM

Project title

Development of a cantilever based instrument for the highly precise measurement of surface stress in semiconductor production and thin film technology

Texts for this project

	German	French	Italian	English
Short description		-	-
Abstract		-	-	-

Inserted texts

Category	Text
Short description (German)	Entwicklung eines Cantilever-basierten Messinstruments zur hochpräzisen Bestimmung von Oberflächenspannungen in der Halbleiterproduktion und Dünnschichttechnologie
Short description (English)	Development of a cantilever based instrument for the highly precise measurement of surface stress in semiconductor production and thin film technology
Abstract (German)	Bei Aufdampfprozessen entstehende Oberflächenspannungen in dünnen Schichten sind vor allem in derHalbleiterindustrie mit ihren immer kleiner werdenden Strukturen von zentraler Bedeutung: sie können dieFunktionstüchtigkeit und Leistungsfähigkeit elektronischer Bauteile beeinträchtigen. Bisher fehlenMethoden, um die auftretenden Spannungen präzise zu messen. Mit einem neuartigen, auf Cantilever-Sensoren basierenden System sollen Spannungen gegenüber herkömmlichen Systemen um einen Faktor1000 genauer bestimmt werden.