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Forschungsstelle
INNOSUISSE
Projektnummer
10051.1;6 PFNM-NM
Projekttitel
Entwicklung eines Cantilever-basierten Messinstruments zur hochpräzisen Bestimmung von Oberflächenspannungen in der Halbleiterproduktion und Dünnschichttechnologie
Projekttitel Englisch
Development of a cantilever based instrument for the highly precise measurement of surface stress in semiconductor production and thin film technology

Texte zu diesem Projekt
 DeutschFranzösischItalienischEnglisch
Kurzbeschreibung
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Abstract
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Erfasste Texte


KategorieText
Kurzbeschreibung
(Deutsch)
Entwicklung eines Cantilever-basierten Messinstruments zur hochpräzisen Bestimmung von Oberflächenspannungen in der Halbleiterproduktion und Dünnschichttechnologie
Kurzbeschreibung
(Englisch)
Development of a cantilever based instrument for the highly precise measurement of surface stress in semiconductor production and thin film technology
Abstract
(Deutsch)
Bei Aufdampfprozessen entstehende Oberflächenspannungen in dünnen Schichten sind vor allem in derHalbleiterindustrie mit ihren immer kleiner werdenden Strukturen von zentraler Bedeutung: sie können dieFunktionstüchtigkeit und Leistungsfähigkeit elektronischer Bauteile beeinträchtigen. Bisher fehlenMethoden, um die auftretenden Spannungen präzise zu messen. Mit einem neuartigen, auf Cantilever-Sensoren basierenden System sollen Spannungen gegenüber herkömmlichen Systemen um einen Faktor1000 genauer bestimmt werden.