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Unité de recherche
INNOSUISSE
Numéro de projet
7253.2;7 EPRP-IW
Titre du projet
Stabiliy of advanced LP-CVD ZnO within encapsulated thin film silicon solar
Titre du projet anglais
Stabiliy of advanced LP-CVD ZnO within encapsulated thin film silicon solar

Textes relatifs à ce projet

 AllemandFrançaisItalienAnglais
Description succincte
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Résumé des résultats (Abstract)
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Textes saisis


CatégorieTexte
Description succincte
(Allemand)
Stabiliy of advanced LP-CVD ZnO within encapsulated thin film silicon solar
Description succincte
(Anglais)
Stabiliy of advanced LP-CVD ZnO within encapsulated thin film silicon solar
Résumé des résultats (Abstract)
(Allemand)
Zinc oxide (ZnO) deposited by Low-Pressure Chemical Vapor Deposition (LP-CVD) has already proven to be a very efficient candidate as transparent electrode to contact thin-film silicon solar cells developed in laboratory.The goal of this project is to study and improve if necessary the overall stability of LP-CVD ZnO layers, as incorporated within encapsulated thin-films silicon solar cells. This work is done in order to validate a complete commercial concept of Photovoltaic (PV) thin-film silicon solar cells.