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Unité de recherche
COST
Numéro de projet
C01.0066
Titre du projet
Nanosize ferroelectric structures via chemical solution routes
Titre du projet anglais
Nanosize ferroelectric structures via chemical solution routes
Données de base
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Textes relatifs à ce projet
Allemand
Français
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Références bases de données
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Textes saisis
Catégorie
Texte
Mots-clé
(Anglais)
Ferroelectric thin films; selective growth; e-beam lithography
Programme de recherche
(Anglais)
COST-Action 528 - Chemical Solution Deposition on Thin Films
Description succincte
(Anglais)
See abstract
Partenaires et organisations internationales
(Anglais)
AT, BE, CZ, FI, FR, DE, HU, IE, IT, LT, PT, RO, CS, SK, SI, ES, CH, UK
Résumé des résultats (Abstract)
(Anglais)
Triangular (111) and square-shaped (100)-oriented Pb( Zr,Ti) O3 (PZT) single crystallites with lateral dimensions down to 50 nm and thickness of 20 nm have been grown using lithography-modulated self-assembly. Epitaxial (111)-oriented Pt on a SrTiO3 single crystal served assubstrate. Site-selectivity was achieved using affinity spots obtained from an epitaxial 2 nm thick rutile TiO2 film that was patterned by e-beam lithography. TiO2 attaches PbO from the PZT process and provokes quick nucleation of the perovskite, whereas on bare Pt outside the spots PbO is rather reevaporating than reacting. The spot patterns have been fabricated by positive PMMA resist in combination with pattern inversion by a lift-off hard mask, and alternatively by using a negative resist serving at the same time as mask for the dry etching process of TiO2.
Références bases de données
(Anglais)
Swiss Database: COST-DB of the State Secretariat for Education and Research Hallwylstrasse 4 CH-3003 Berne, Switzerland Tel. +41 31 322 74 82 Swiss Project-Number: C01.0066
SEFRI
- Einsteinstrasse 2 - 3003 Berne -
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