Développement de résines photosensibles rapides pour couches épaisses

Unité de recherche

INNOSUISSE

Numéro de projet

4985.2;2 KTS-IW

Titre du projet

Développement de résines photosensibles rapides pour couches épaisses

Etat du projet	Terminé

Date de début	01.11.2000
Date de fin	09.12.2004

Coûts totaux approuvés	376'100.00 CHF
Domaine	5 CTI
Catégorie de projet	Projet
Type de recherche	Recherche appliquée et développement
Code NABS	Production et technologie industrielles

Disciplines/domaines	100 % Pas encore déterminé

Dernière modification du projet 27.11.2014