Preparatory R&D work for the development of a high surface quality and large-scale production process of imaging chips

Unité de recherche

INNOSUISSE

Numéro de projet

15189.1;6 INNO12-IW

Titre du projet

Preparatory R&D work for the development of a high surface quality and large-scale production process of imaging chips

Etat du projet	Terminé

Date de début	11.03.2013
Date de fin	23.05.2014

Coûts totaux approuvés	7'500.00 CHF
Domaine	19 Förderbereich GL
Catégorie de projet	Projet
Type de recherche	Recherche appliquée et développement
Code NABS	Recherches non ventilées / non attribuables

Disciplines/domaines	100 % T150 Technologie de matériaux

Dernière modification du projet 27.11.2014