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Forschungsstelle
INNOSUISSE
Projektnummer
13271.1;8 PFIW-IW
Projekttitel
A new low ion energy bombardment PECVD reactor for the deposition of thin film silicon for solar cell applications
Projekttitel Englisch
A new low ion energy bombardment PECVD reactor for the deposition of thin film silicon for solar cell applications
Projektstatus Abgeschlossen
 
Startdatum 01.01.2012
Endedatum 02.07.2013
 
Gesamtkosten bewilligt 112'029.00  CHF
Bereich 23 Förderbereich Engineering
Proj. Kategorie Projekt
Forschungsart Angewandte Forschung und Entwicklung
NABS-Klassifikation Nicht aufteilbare / nicht zuteilbare Forschung
 
Fachbereiche
100 % T130 Produktionstechnik
Letzte Änderung Projekt
27.11.2014