Optimization of the plasma enhanced chemical vapor (PECVD) process for the deposition of SiOx barrier coatings on polymers

Unité de recherche

INNOSUISSE

Numéro de projet

8587.1;6 EPRP-IW

Titre du projet

Optimization of the plasma enhanced chemical vapor (PECVD) process for the deposition of SiOx barrier coatings on polymers

Titre du projet anglais

Optimization of the plasma enhanced chemical vapor (PECVD) process for the deposition of SiOx barrier coatings on polymers

Etat du projet	Terminé

Date de début	01.02.2007
Date de fin	18.10.2010

Coûts totaux approuvés	240'000.00 CHF
Domaine	23 Förderbereich Engineering
Catégorie de projet	Projet
Type de recherche	Recherche appliquée et développement
Code NABS	Recherches non ventilées / non attribuables

Disciplines/domaines	100 % T130 Technologie de la production

Dernière modification du projet 27.11.2014