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Unité de recherche
INNOSUISSE
Numéro de projet
8349.1;3 NMPP-NM
Titre du projet
Improvement of Dopant Diffusion and Activation Models in Strained Silicon by Ab Initio Simulations on the Atomic Scale (ATOMDIFF)
Titre du projet anglais
Improvement of Dopant Diffusion and Activation Models in Strained Silicon by Ab Initio Simulations on the Atomic Scale (ATOMDIFF)
Etat du projet Terminé
 
Date de début 01.05.2006
Date de fin 10.08.2010
 
Coûts totaux approuvés 515'189.00  CHF
Domaine 22 Förderbereich Nano / Micro
Catégorie de projet Projet
Type de recherche Recherche appliquée et développement
Code NABS Recherches non ventilées / non attribuables
 
Disciplines/domaines
100 % T150 Technologie de matériaux

Dernière modification du projet
27.11.2014