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Unité de recherche
INNOSUISSE
Numéro de projet
6947.1;6 EPRP-IW
Titre du projet
A new large area very high frequency (VHF) reactor for the high rate deposition of microcrystalline silicon for thin film solar cell applications
Titre du projet anglais
A new large area very high frequency (VHF) reactor for the high rate deposition of microcrystalline silicon for thin film solar cell applications
Etat du projet Terminé
 
Date de début 01.05.2004
Date de fin 26.10.2007
 
Coûts totaux approuvés 349'980.00  CHF
Domaine 23 Förderbereich Engineering
Catégorie de projet Projet
Type de recherche Recherche appliquée et développement
Code NABS Production et technologie industrielles
 
Disciplines/domaines
100 % T130 Technologie de la production
Dernière modification du projet
27.11.2014