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Forschungsstelle
INNOSUISSE
Projektnummer
6947.1;6 EPRP-IW
Projekttitel
A new large area very high frequency (VHF) reactor for the high deposition of microcrystalline silicon for thin solar cell applications
Projekttitel Englisch
A new large area very high frequency (VHF) reactor for the high rate deposition of microcrystalline silicon for thin film solar cell applications
Projektstatus Abgeschlossen
 
Startdatum 01.05.2004
Endedatum 26.10.2007
 
Gesamtkosten bewilligt 349'980.00  CHF
Bereich 23 Förderbereich Engineering
Proj. Kategorie Projekt
Forschungsart Angewandte Forschung und Entwicklung
NABS-Klassifikation Industrielle Produktivität und Technologie
 
Fachbereiche
100 % T130 Produktionstechnik

Letzte Änderung Projekt
27.11.2014