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Forschungsstelle
INNOSUISSE
Projektnummer
6928.1;7 EPRP-IW
Projekttitel
High rate deposition of microcrystalline silicon thin-film solar cell devices in industrial KAI PE-CVD reactor
Projektstatus Abgeschlossen
 
Startdatum 01.03.2004
Endedatum 04.07.2006
 
Gesamtkosten bewilligt 580'000.00  CHF
Bereich 23 Förderbereich Engineering
Proj. Kategorie Projekt
Forschungsart Angewandte Forschung und Entwicklung
NABS-Klassifikation Industrielle Produktivität und Technologie
 
Fachbereiche
100 % T130 Produktionstechnik
Letzte Änderung Projekt
27.11.2014