Fundamentals of Nano-scaled Crack Propagation for Processing of Semiconductor Devices

Unité de recherche

INNOSUISSE

Numéro de projet

6025.2;8 TNS-NM

Titre du projet

Fundamentals of Nano-scaled Crack Propagation for Processing of Semiconductor Devices

Etat du projet	Terminé

Date de début	01.05.2003
Date de fin	18.09.2006

Coûts totaux approuvés	446'000.00 CHF
Domaine	17 TOP NANO
Catégorie de projet	Projet
Type de recherche	Recherche appliquée et développement
Code NABS	Production et technologie industrielles

Disciplines/domaines	100 % T150 Technologie de matériaux

Dernière modification du projet 27.11.2014