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Forschungsstelle
INNOSUISSE
Projektnummer
4299.2;2 KTS
Projekttitel
Entwicklung von Prozessen zur Deposition von spannungsarmen Niedertemperatur-Isolationsschichten für microsystemtechnische und mikroelektronische Anwendungen
Projektstatus Abgeschlossen
 
Startdatum 01.04.1999
Endedatum 13.10.2003
 
Gesamtkosten bewilligt 214'000.00  CHF
Bereich 5 KTI
Proj. Kategorie Projekt
Forschungsart Angewandte Forschung und Entwicklung
NABS-Klassifikation Industrielle Produktivität und Technologie
 
Fachbereiche
100 % Noch nicht erfasst
Letzte Änderung Projekt
27.11.2014